拓荊科技(688072)2月27日晚發(fā)布2025年度業(yè)績快報，2025年度，公司實現(xiàn)營業(yè)收入約65.19億元，同比增長約58.87%；歸屬于母公司所有者的凈利潤約9.29億元，同比增長約35.05%；歸屬于母公司所有者的扣除非經(jīng)常性損益的凈利潤約7.26億元，同比增長約103.79%。
截至2025年末，公司總資產約198.25億元，與本報告期初相比增長約29.45%；歸屬于母公司的所有者權益約66.12億元，與本報告期初相比增長約25.23%。
拓荊科技介紹，報告期內，營業(yè)收入同比增長58.87%，主要系公司產品競爭力持續(xù)提升，公司應用于先進存儲、先進邏輯領域的PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等先進工藝設備進入規(guī)模化量產，并實現(xiàn)收入轉化；先進鍵合設備在客戶拓展方面取得了關鍵突破，銷售收入實現(xiàn)了大幅增長。
歸屬于母公司所有者的凈利潤同比增長35.05%，主要原因為營業(yè)收入大幅增長，毛利額增加；公司營業(yè)收入規(guī)模持續(xù)擴大，同時規(guī)模效應逐漸顯現(xiàn)，期間費用率下降。
歸屬于母公司所有者的扣除非經(jīng)常性損益的凈利潤同比增長103.79%，主要原因為日常經(jīng)營活動產生的歸屬于母公司股東的凈利潤大幅增加；非經(jīng)常性損益同比減少，主要為公司對外投資的公允價值變動損益同比減少。
拓荊科技一直在高端半導體設備領域深耕，并專注于薄膜沉積設備的研發(fā)和產業(yè)化應用，形成了以PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）、ALD（原子層沉積）、SACVD（次常壓化學氣相沉積）、HDPCVD（高密度等離子體增強化學氣相沉積）以及Flowable CVD（流動性化學氣相沉積）為主的薄膜設備系列產品，以及應用于三維集成領域的先進鍵合設備（包括混合鍵合、熔融鍵合設備）及配套使用的測量檢測設備系列產品，在集成電路邏輯芯片、存儲芯片制造及先進封裝等領域得到廣泛應用。
公司目前主要在沈陽、上海臨港設有產業(yè)化基地，總體可支撐超過700臺套/年產能，公司正在建設沈陽二廠，將進一步擴大未來產能支撐能力。
拓荊科技在業(yè)績快報中表示，隨著人工智能（AI）、高性能計算（HPC）、汽車電子（智能駕駛、車聯(lián)網(wǎng)）、機器人及可穿戴設備等新興領域技術的快速發(fā)展和需求的激增，芯片制造廠加速推進先進制程的技術迭代，同時不斷擴大產能規(guī)模。公司積極把握半導體芯片技術迭代升級與國產替代的發(fā)展機遇，構建了較為完善的薄膜沉積設備、三維集成領域設備的產品矩陣。依托在PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等薄膜沉積設備及先進鍵合設備領域的技術突破與規(guī)模化量產，公司在先進制程領域核心競爭力顯著提升，業(yè)務規(guī)模實現(xiàn)大幅增長。
公司始終堅持高強度研發(fā)投入與自主創(chuàng)新雙輪驅動，在新產品研發(fā)、產業(yè)化落地及全系列產品迭代升級等關鍵領域，取得了一系列重大突破性創(chuàng)新成果。2025年，公司基于新型設備平臺（PF-300T Plus 和 PF-300M）和新型反應腔（pX和 Supra-D）的 PECVD Stack（ONO 疊層）、ACHM 以及PECVD Bianca 等先進制程機臺通過客戶驗證，實現(xiàn)產業(yè)化放量；應用于先進存儲領域的PECVDOPN、SiB 等先進工藝設備通過客戶驗證；ALD 多種工藝設備通過客戶驗證，其收入同比實現(xiàn)大幅度增長，產業(yè)化進程顯著加速；在混合鍵合設備方面，持續(xù)拓展客戶群體，收入保持高速增長趨勢。公司持續(xù)完善和擴大工藝覆蓋范圍，整體技術實力與核心競爭力實現(xiàn)穩(wěn)步提升。
